集成电路布图设计专有权制度介绍

集成电路布图设计专有权制度是针对集成电路这一高技术领域而设立的一项知识产权保护制度。

一、制度概述

集成电路布图设计专有权，是指集成电路布图设计权利人对其布图设计享有的专有权利。根据《集成电路布图设计保护条例》，布图设计是指集成电路中至少有一个是有源元件的两个以上元件和部分或者全部互连线路的三维配置，或者为制造集成电路而准备的上述三维配置。

二、保护对象

该制度保护的对象是集成电路布图设计，而非集成电路本身或其中的技术方案。受保护的布图设计应当具有独创性，即其是创作者自己的智力劳动成果，并且在其创作时在布图设计创作者和集成电路制造者中不是公认的常规设计。

三、权利内容

集成电路布图设计专有权主要包括复制权和商业利用权。复制权是指权利人有权禁止他人未经许可复制其受保护的布图设计。商业利用权是指权利人有权禁止他人未经许可为商业目的进口、销售或者以其他方式提供受保护的布图设计、含有该布图设计的集成电路或者含有该集成电路的物品。

四、取得方式

我国的集成电路布图设计专有权采用登记制。布图设计权利人应当向国家知识产权局提出登记申请，经初步审查合格后，予以登记并公告，其专有权自申请日起生效。

五、保护期限

集成电路布图设计专有权的保护期为10年，自布图设计登记申请之日或者在世界任何地方首次投入商业利用之日起计算，以较前日期为准。但是，无论是否登记或者投入商业利用，布图设计自创作完成之日起15年后，不再受保护。

六、侵权与例外

未经权利人许可，复制受保护的布图设计的全部或者其中任何具有独创性的部分，或者为商业目的进口、销售或者以其他方式提供受保护的布图设计、含有该布图设计的集成电路或者含有该集成电路的物品，均构成侵权。但下列行为不视为侵权：为个人学习、研究或者欣赏而复制布图设计；在评价、分析、研究或者教学过程中复制布图设计；对自己独立创作的相同布图设计进行复制或商业利用；以及根据技术标准而进行的强制许可等。

集成电路布图设计专有权制度通过保护布图设计这一中间成果，有效促进了集成电路技术的创新与传播，平衡了权利人与公众的利益，对推动信息产业发展具有重要意义。